特别加工制备的电子级氧化铝研磨化合物，它能满足关键表面磨光和抛光的要求。 特点 · 具有六方晶系结构的高纯氧化铝 · 有效的颗粒分布 · 快速研磨速率 · 超高抛光度 · 满足ASTM标准的要求 重要应用范围 用来磨光和抛光锗、硅、金属间化合物、瓷器、纯粒铁、激光晶体、光学玻璃棱镜、塑料接触棱镜、窗口、不锈钢和其他金相样品。 说明 研磨和抛光产品Polmet是白色、纯净的六方晶系氧化铝化合物。此化合物硬度极高（莫氏硬度）且粒度分布极为均匀。抛光粉Polmet在关键性研磨和抛光方面的性能是无与伦比的。 Polmet化合物以其颗粒大小而分级，并以成品形式供应，分别满足各种具体的精确的要求。 级别 | 微米尺寸 | 应用 | Polmet-alpha（α） | 0.05 | 高度抛光 | Polmet-beta（β） | 0.3 | 高度抛光 | Polmet-gamma（γ） | 1 | 抛光 | Polmet-delta（δ） | 3 | 极细研磨 | Polmet-epsilon（ε） | 5 (2,500) | 细研磨 | Polmet-zeta（ζ） | 10 (1,250) | 研磨 | Polmet-eta（η） | 12 | 研磨 | Polmet-iota（ι） | 15 | 粗研磨 | Polmet-kappa （κ） | 20(600) | 粗研磨 | Polmet-lambda（λ） | 25 (500) | 粗研磨 | Polmet-mu（μ） | 30 (400) | 粗研磨 |
括号中注出的是相应的目数。 产品也以浆状出售，见公报（Bulletin）116期：Polmet氧化铝抛光粉 应用 Polmet氧化铝以水浆、膏状和油悬浮液等形式应用于磨光和抛光工艺工程。通常要使用标准布、塑料和专利磨光和抛光盘。 | 
