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Kopton聚酰亚胺膜蚀刻剂

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产品详情

Kopton聚酰亚胺膜蚀刻剂

本品是用于聚酰亚胺/铜叠层材料的蚀刻剂，与Riston、Eastman Kodak和Dynachem等光刻工艺具有良好匹配性。

蚀刻速率
40℃	0.013密耳/分
60℃	0.07密耳/分
冲洗	水
贮存	室温
处理	碱水

烟台科瑞尔化学科技有限公司

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