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半导体蚀刻剂

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产品详情
半导体蚀刻剂
本品为预先混好，随手可用的含有电子级质量的硝酸-HF酸混合液的蚀刻剂，用来蚀刻硅、锗、镓、砷化物以及其他半导体材料。
特殊硅蚀刻剂
产品号
蚀刻剂
        蚀刻速率
RSE-100
缓慢蚀刻硅
20 Å /秒
RSE-200
蚀刻台面型晶体管
100 Å /秒
标准硝酸－HF酸蚀刻剂
产品号
蚀刻剂组成比
RSE-101
10：1
RSE-41
4：1
RSE-31
3：1
RSE-12
1：2
标准硝酸－HF酸－醋酸蚀刻剂
产品号
            蚀刻剂组成比
RSE-533
5：3：3
RSE-511
5：1：1
RSE-111
1：1：1
RSE-322
3：2：2
RSE-1155
11：5：5
RSE-563
5：6：3，250 Å /秒，20℃蚀刻锗
装在聚乙烯瓶内出售，4×1加仑/箱，可提供专利配方。
烟台科瑞尔化学科技有限公司
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