钽蚀刻剂SIE—8607和111

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产品详情

说明

Transene钽蚀刻剂SIE—8607和111是在微电子产品的制作中用于精密、清晰的蚀刻钽、氮化钽和氧化钽膜的高纯度蚀刻剂体系。钽蚀刻剂SIE—8607是浸蚀性更强的快速蚀刻剂。而钽蚀刻剂—111则是便于蚀刻控制的较缓慢的蚀刻剂，它能更为有效地去除氧化钽膜层。这两种蚀刻剂都经过滤去除了大于0.2微米的颗粒。

性质

	钽蚀刻剂SIE—8607	钽蚀刻剂—111
外观	澄清	澄清
溶解性	无限溶于水	无限溶于水
过滤	0.2微米	0.2微米
操作温度	25℃	25℃
蚀刻速率（Ta），25℃	70～80 Å/秒	30～40 Å/秒
贮存	室温	室温
有效期	1年	1年
掩散材料	金；阴性和阳性光刻胶	金；阴性和阳性光刻胶
冲洗	去离子水	去离子水

应用

蚀刻时间随材料种类（Ta，TaN或Ta₂O₅）和材料的纯度的不同而改变。把待蚀刻部件放在蚀刻液中后应进行中等强度的搅拌。钽蚀刻剂中含有氢氟酸，它能浸蚀氧化硅、钛、镍、铝和铬。

烟台科瑞尔化学科技有限公司

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