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银蚀刻剂TFS

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产品详情
本品为银的选择性蚀刻剂，与阴、阳性光刻胶相匹配，用于微电子薄膜蚀刻电路元件。
特点
• 蚀刻易于控制，边下蚀最低，蚀刻线路轮廓清晰
• 在室温下操作
• 蚀刻速率均匀
• 廉价经济
说明
银蚀刻剂TFS在光刻法制作微电子线路中用于挑选蚀刻银。和光刻胶联合使用，该蚀刻剂可在铝或其他基板的薄膜上制作出精密的电极和电阻图案。其纯度高、钠含量低，0.2微米过滤，适宜用于半导体和微电子产品制作。
银蚀刻剂TFS——不含氰的标准产品
TFS
操作温度
室温
通风
通风橱
搅拌
搅拌以提高蚀刻速率
蚀刻容器
玻璃
时刻速率，25℃
200Å/秒
组成
含KI-I2络合物，
随手可用溶液
PH，20℃
密度，20℃
冲洗
蒸馏水或去离子水
匹配光刻胶
阴性和阳性光刻胶
废物处理
（从废液中回收银）
根据国家规定的章程进行处理。把废液送到适当废物处理厂
杂质最大含量
（ppm）
钠（Na）
40
氯和溴化物(Cl)
100
铅(Pb)
5
铁（Fe）
3
硫（作为硫酸盐）
50
磷（作为磷酸盐）
10
烟台科瑞尔化学科技有限公司
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